2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | |
---|---|---|---|---|---|
Umsatz | 19,65 | 16,92 | 16,45 | 25,81 | 24,11 |
Bruttoergebnis vom Umsatz | 2,80 | 2,88 | 3,28 | 6,63 | 5,07 |
EBITDA | -3,39 | -6,43 | 5,77 | -0,96 | -3,82 |
EBIT | -4,98 | -7,82 | 5,03 | -1,82 | -4,61 |
Ergebnis vor Steuer | -4,91 | -7,60 | 4,77 | -0,22 | -4,19 |
Ergebnis nach Steuern | -6,33 | -6,07 | 4,75 | -0,22 | -4,18 |
2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | |
---|---|---|---|---|---|
Aktiva | 46,72 | 40,94 | 35,52 | 37,91 | 35,03 |
Umlaufvermögen | 14,17 | 11,79 | 23,07 | 23,66 | 22,84 |
Summe Anlagevermögen | 32,56 | 29,15 | 12,45 | 14,25 | 12,18 |
Passiva | 46,72 | 40,94 | 35,52 | 37,91 | 35,03 |
Summe kurzfristige Verbindlichkeiten | 5,39 | 3,70 | 6,34 | 8,16 | 8,55 |
Summe langfristige Verbindlichkeiten | 11,38 | 13,11 | 4,58 | 0,35 | 0,27 |
Summe Fremdkapital | 16,77 | 16,81 | 6,34 | 8,51 | 8,82 |
Bilanzielles Eigenkapital | 29,96 | 24,13 | 29,19 | 29,40 | 26,20 |
2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | |
---|---|---|---|---|---|
Cashflow | 570,71 Tsd. | -1,13 Mio. | -4,27 Mio. | 194,00 Tsd. | -206,00 Tsd. |
2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | |
---|---|---|---|---|---|
Kurs-Gewinn-Verhältnis (KGV) | -3,39 | -3,99 | 5,80 | -183,67 | -7,26 |
Kurs-Cash-Flow-Verhältnis (KCV) | 35,78 | -21,35 | -6,44 | 183,67 | -147,67 |
Kurs-Buchwert-Verhältnis (KBV) | 0,71 | 1,01 | 0,95 | 1,27 | 1,15 |
Kurs-Umsatz-Verhältnis (KUV) | 1,08 | 1,43 | 1,68 | 1,44 | 1,25 |
Umsatz je Aktie | 2,97 | 2,53 | 2,45 | 3,82 | 3,53 |
Cashflow je Aktie | 0,09 | -0,17 | -0,64 | 0,03 | -0,03 |
Anlageintensität | 70,00 % | 71,00 % | 35,00 % | 38,00 % | 35,00 % |
Arbeitsintensität | 30,00 % | 29,00 % | 65,00 % | 62,00 % | 65,00 % |
Eigenkapitalquote | 64,12 % | 58,94 % | 82,16 % | 77,55 % | 74,81 % |
Fremdkapitalquote | 35,88 % | 41,06 % | 17,84 % | 22,45 % | 25,19 % |
Verschuldungsgrad | 55,96 % | 69,68 % | 21,71 % | 28,96 % | 33,67 % |
Working Capital in Mio. | 8,78 | 8,09 | 16,74 | 15,49 | 14,29 |
Deckungsgrad A | 92,02 % | 82,78 % | 234,39 % | 206,25 % | 215,06 % |
Deckungsgrad B | 126,96 % | 127,74 % | 234,39 % | 208,70 % | 217,26 % |
Deckungsgrad C | 120,63 % | 123,00 % | 213,39 % | 177,16 % | 159,10 % |
Umsatzrentabilität | - | - | 28,86 % | - | - |
Eigenkapitalrendite | - | - | 16,26 % | - | - |
Gesamtrendite | - | - | 13,36 % | - | - |
2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | |
---|---|---|---|---|---|
Aktien im Umlauf in Mio. | 6,63 | 6,68 | 6,72 | 6,76 | 6,82 |
2024 | |
---|---|
Anzahl Mitarbeiter | 128 |
Die CVD Equipment Corporation entwirft, entwickelt, fertigt und verkauft zusammen mit ihren Tochtergesellschaften Anlagen zur Entwicklung und Herstellung von Materialien und Beschichtungen in den Vereinigten Staaten. Das Unternehmen ist in drei Segmenten tätig: CVD-Anlagen, Stainless Design Concepts und CVD-Materialien. Unter dem Markennamen FirstNano bietet das Unternehmen Anlagen für die chemische Gasphasenabscheidung, den physikalischen Dampftransport und thermische Verfahren für verschiedene Märkte an, z. B. für Hochleistungselektronik, fortschrittliche Werkstoffe für Gasturbinentriebwerke in der Luft- und Raumfahrt, Nanomaterialien für Batterien sowie Halbleiter, LEDs, Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähte, Solarzellen und andere industrielle und Forschungsanwendungen; und Kontrollsysteme für ultrahochreine Gase und Chemikalien, einschließlich Gasflaschenlagerschränke, kundenspezifische Gas- und Chemikalienzufuhrsysteme, Gas- und Flüssigkeitsventilverteiler und Gasisolationsboxen für Halbleiterherstellungsprozesse, Luft- und Raumfahrt, Solarzellen, LEDs, Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähte und industrielle Anwendungen. Darüber hinaus bietet das Unternehmen Produkte im Zusammenhang mit fortschrittlichen Materialien und Beschichtungen an, wie z. B. Tantaline, eine korrosionsbeständige Oberflächenbehandlungslösung, und MesoPlasma-Druckdienstleistungen und -produkte, die Heizelemente, Antennen und Sensoren für die Luft- und Raumfahrt, Satelliten, Energieerzeugung, Verteidigung und andere Märkte umfassen. Darüber hinaus bietet das Unternehmen Glüh-, Diffusions- und Niederdrucköfen für die chemische Gasphasenabscheidung sowie Standard- und kundenspezifisch gefertigte Quarzprodukte an, die in seinen Anlagen und anderen Kundenwerkzeugen verwendet werden. Das Unternehmen wurde 1982 gegründet und hat seinen Hauptsitz in Central Islip, New York.
Adresse | 355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722 |
Telefon | 631 981 7081 |
Internet | https://www.cvdequipment.com |